Politechnika Opolska awansowała w światowym rankingu uczelni. Miejsce nieprzypadkowe

W tegorocznej edycji U.S. News Best Global Universities Subject Ranking dotyczącego inżynierii wzięto pod uwagę 2460 uczelni z prawie stu państw całego świata. Na 281 europejskich uczelni, w rankingu znalazło się 12 szkół wyższych z Polski. Jak podkreślił prof. Marcin Lorenc, rektor Politechniki Opolskiej, w ciągu ostatniego roku uczelnia awansowała w kilku kategoriach.

Awans Politechniki Opolskiej w rankingu uczelni

Trzy pierwsze miejsca na podium w tej kategorii wśród polskich uczelni politechnicznych zajęły: Politechnika Gdańska, AGH oraz Politechnika Śląska.

Politechnika Opolska w zestawieniu dotyczącym obszaru inżynierii po raz pierwszy została ujęta w rankingu w zeszłym roku osiągając 9. miejsce w kraju i 747 miejsce na świecie. W tym roku w rankingu zakwalifikowano tylko 12 polskich uczelni. Nasza uczelnia zajmuje 4. miejsce w Polsce i awansowała na 417. na świecie. Tak wysoki awans w skali światowej oznacza jedno: nauka i badania na naszej uczelni są na bardzo wysokim poziomie. To ważna wiadomość także dla kandydatów na studia, którzy coraz częściej zwracają uwagę na światowe rankingi - zaznaczył prof. Marcin Lorenc, rektor Politechniki Opolskiej.

Jak podała uczelnia, dane do rankingu są zbierane z corocznych badań i bazują na 13 wskaźnikach. To np. liczba publikacji, reputacja badań lokalnych i globalnych, cytowania czy współpraca międzynarodowa. Kategoria „inżynieria” obejmuje publikacje dotyczące wielu dyscyplin inżynieryjnych. Publikacje w tej kategorii koncentrują się na projektowaniu, budowaniu i wykorzystywaniu struktur, maszyn i systemów, od inżynierii lotniczej i kosmicznej, mechanicznej, elektrycznej i lądowej po energię jądrową, sztuczną inteligencję stosowaną i robotykę.

Politechnika Opolska przypomniała, że jest jedyną uczelnią województwa opolskiego, która została zakwalifikowana na Listę Szanghajską, największy naukowy ranking świata, zajmując pierwsze miejsce w Polsce w obszarze inżynierii mechanicznej.